
Ä¿¹ö»çÁø ¹× ¸ð½Äµµ.(»çÁø= ÀÎõ´ë Á¦°ø)
[´º½ºÅë½Å=±è»ó¼· ±âÀÚ] ÀÎõ´ë±³¼ö¿¬±¸ÆÀÀÌ ¾çÀÚÄÄÇ»Åͱ¸ÇöÀ§ÇÑ ÃÊÀúÀü·Â À§»ó Æ®·£Áö½ºÅÍÀÌ·ÐÀû ¼³°è¿¡ ¼º°øÇß´Ù.
6ÀÏ ÀÎõ´ëÇб³(ÃÑÀå ÀÌÀÎÀç)´Â ÀüÀÚ°øÇкΡ¤Áö´ÉÇü¹ÝµµÃ¼°øÇаú ÀÌ¿µÈÆ ±³¼ö ¿¬±¸ÆÀÀÌ ÃÊÀúÀü·Â À§»ó Æ®·£Áö½ºÅ͸¦ ÀÌ·ÐÀûÀ¸·Î ¼³°èÇϴµ¥ ¼º°øÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù.
À̹ø ÀÌ·ÐÀû ¼³°è´Â ´ë±Ô¸ð ¾çÀÚÄÄÇ»ÆÃ ½Ã½ºÅÛ±¸ÇöÀ» À§ÇÑ ±ØÀú¿Â ÀüÀÚ ÀÎÅÍÆäÀ̽º¿¡ Ȱ¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ÃÊÀúÀü·Â À§»ó Æ®·£Áö½ºÅÍ´Ù.
´ë±Ô¸ð ¾çÀÚÄÄÇ»ÆÃ ½Ã½ºÅÛÀ» ±¸ÇöÇϱâ À§Çؼ´Â ¾çÀÚ ÇÁ·Î¼¼¼¿Í ¿¬°áµÇ´Â ±ØÀú¿Â(4K ÀÌÇÏ) ÀüÀÚ Á¦¾î¡¤ÆÇµ¶ ȸ·Î°¡ ÇʼöÀûÀÌ´Ù.
±×·¯³ª ±âÁ¸ Ȱ¿ëµÅ¿Â III-VÁ· °íÀüÀÚ À̵¿µµ Æ®·£Áö½ºÅÍ(HEMT)´Â ³Ã°¢ÀåÄ¡ÀÇ ³Ã°¢¿ë·®À» ÃʰúÇÏ´Â Àü·Â¼Ò¸ð¹®Á¦·Î ´ë±Ô¸ð Å¥ºñÆ® ÁýÀû¿¡ ÇѰ谡 ÀÖ´Ù.
ÀÌ¿µÈÆ ±³¼ö ¿¬±¸ÆÀÀº ±âÁ¸ HEMT¸¦ ´ëüÇÒ ¼ö ÀÖ´Â »õ·Î¿î ¼ÒÀÚ±¸Á¶ NC-TIFET¸¦ ÀÌ·ÐÀûÀ¸·Î Á¦¾ÈÇÏ°í ºÐ¼®Çß´Ù. (
ÀÌ ¼ÒÀÚ´Â 2Â÷¿ø À§»óÀý¿¬Ã¼ 1T¡Ç-MoS2(1T¡Ç»ó ÀÌÈ²È ¸ô¸®ºêµ§)ÀÇ °íÀ¯ÇÑ À§»óÇÐÀû Ư¼º°ú °À¯Àüü°ÔÀÌÆ® Àý¿¬Ã¼ HZO(ÇÏÇÁ´½-Áö¸£ÄÚ´½ »êȹ°) À½ÀÇ Á¤Àü¿ë·®È¿°ú¸¦ °áÇÕÇÑ ±¸Á¶´Ù.
¿¬±¸ÆÀÀÇ À̷км®¿¡ µû¸£¸é, NC-TIFETÀº 4K ±ØÀú¿Â ȯ°æ¿¡¼ µå·¹ÀÎÀü¾Ð 0.05 V¿¡¼ 20 mV ¹Ì¸¸ÀÇ ½ºÀ§ÄªÀü¾ÐÀ» ´Þ¼ºÇß´Ù.
0.1 V Á¶°Ç¿¡¼´Â 26 S/mm¿¡ ´ÞÇÏ´Â ¸Å¿ì³ôÀº Æ®·£½ºÄÁ´öÅϽº(gm)¸¦ º¸¿´À¸¸ç, ÀÌ´Â º¸°íµÈ ±ØÀú¿Â HEMTÀÇ ÃÖ°í ½ÇÇè°ª(0.8 S/mm)º¸´Ù 30¹èÀÌ»ó ³ôÀº ¼º´ÉÀÌ´Ù.
µû¶ó¼, ´ë±Ô¸ð ¾çÀÚÄÄÇ»ÆÃ¿ë ±ØÀú¿Â ÀüÀÚ ÀÎÅÍÆäÀ̽ºÀÇ Àü·Â¼Ò¸ð¸¦ ȹ±âÀûÀ¸·Î ÁÙÀÏ ¼ö ÀÖÀ½À» ½Ã»çÇÑ´Ù.
ÀÌ¿µÈÆ ±³¼ö´Â "À̹ø ¿¬±¸´Â À§»óÀý¿¬Ã¼ °íÀ¯ÇÑ ¹°¸®ÀûƯ¼º°ú °À¯Àüü À½ÀÇ Á¤Àü¿ë·®È¿°ú¸¦ °áÇÕÇØ ±âÁ¸ HEMT Àü·Â¼Ò¸ðÇѰ踦 ³Ñ¾î¼³ ¼ö ÀÖ´Â »õ·Î¿î Æ®·£Áö½ºÅͰ³³äÀ» Á¦½ÃÇß´Ù"°í ¸»Çß´Ù.
À̾î, "ÇâÈÄ Ã¤³Î¼ÒÀçÀÎ 1T¡Ç»ó ÀÌÈ²È ¸ô¸®ºêµ§ÀÇ ÁؾÈÁ¤»ó ¾ÈÁ¤È±â¼ú°ú ½ÇÇèÀû±¸Çö ¿¬±¸°¡ ÁøÇàµÇ¸é, ´ë±Ô¸ð ¾çÀÚÄÄÇ»ÆÃ½Ã½ºÅÛ ½Ç¿ëÈ¿¡ Å©°Ô±â¿©ÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °Í"À̶ó°í µ¡ºÙ¿´´Ù.
ÇÑÆí, À̹ø ¿¬±¸°á°ú´Â ³ª³ëºÐ¾ß ±¹Á¦ÇмúÁö ³ª³ë·¹Åͽº(Nano Letters)¿¡ 2¿ù¿¡ °ÔÀçµÆÀ¸¸ç,ºÎÇ¥Áö³í¹®(Supplementary Cover)À¸·Îµµ ¼±Á¤µÆ´Ù.
¾Æ¿ï·¯ ³í¹®Á¦¸ñÀº ¡®Designing Extremely Low-Power Topological Transistors with 1T¡Ç-MoS2 and HZO for Cryogenic Applications¡¯ÀÌ´Ù.



±è»ó¼· ±âÀÚ





